显微分光膜厚仪是一种基于光的干涉和分光原理的高精度测量仪器
更新时间：2025-08-18
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显微分光膜厚仪是一种高精度光学测量仪器，主要用于非破坏性、非接触地测量薄膜、晶片、光学材料及多层膜的厚度，并分析其光学常数(如折射率、消光系数)。基于光的干涉和分光原理。当光线照射到薄膜表面时，会在薄膜的前后表面之间多次反射，形成干涉条纹。通过分光技术将这些干涉条纹分解为不同波长的光谱，并测量其强度分布，再利用相关算法计算出薄膜的厚度、折射率等参数。
显微分光膜厚仪通过显微光谱法，在微小区域内测量绝对反射率。当光线照射到薄膜表面时，会发生反射和透射现象，光线在薄膜前后表面多次反射形成干涉条纹。分光技术将这些干涉条纹分解为不同波长的光谱，并测量其强度分布，从而计算出薄膜的厚度、折射率(n)和消光系数(k)等参数。
特点
高精度测量:采用精密算法，实现亚纳米级膜厚测量，确保结果的准确性和可靠性。满足不同厚度薄膜的测量需求。
非接触式测量:测量过程中无需直接接触样品，避免外力对样品造成损伤，保护样品完整性。适用于贵重或脆弱薄膜材料(如半导体晶圆、光学涂层)的测量。
快速测量与实时显示:测量时间短至1秒/点，支持高速自动化扫描，提高检测效率。实时显示膜厚数据，便于快速分析。
广波长范围与多层膜解析:光学系统覆盖紫外至近红外波段(如230-1600nm)，适应不同材料的光谱特性。支持多层膜结构解析，可同时测量多层薄膜的厚度和光学常数。
用户友好设计:搭载易于分析的软件向导，即使初次使用者也能快速完成光学常数分析。独立测量头支持客制化需求，适应不同生产线的在线监测场景。
