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Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章

简要描述:Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章
纳米级纹理凹槽表面
可变凹槽周期和凹槽深度
纳米光子学研究应用的理想选择

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-05-21
  • 访  问  量:139

产品介绍

品牌Edmund Optics价格区间面议
组件类别光学元件应用领域综合

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章

纳米级纹理凹槽表面

可变凹槽周期和凹槽深度

纳米光子学研究应用的理想选择


通用规格

涂层:
Uncoated
构造 :
RIE Grating
基底:
Single Crystal Silicon
表面质量:
60-40 (within CA)
厚度 (mm):
0.68 ±0.05


型号

产品编码Period (nm)尺寸 (mm)
16-855855 ±42.7512.50 x 12.50 
16-856855 ±42.7525.00 x 25.00 
16-857139 ±6.9512.50 x 12.50 
16-858139 ±6.9525.00 x 25.00 


详细资料

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章由在单晶硅基板上形成图案的纳米级纹理表面组成。通过反应离子蚀刻,具有梯形横截面的线性凹槽被蚀刻到基板表面,类似于传统的光栅。蚀刻工艺可为这些凹槽提供不同的周期和深度规格,以及更复杂的图案,例如晶格。II-VI LightSmyth™ 纳米图案硅印章是光学和光子学、生物学、化学、纳米压印和微流体领域的纳米光子学研究应用的理想选择。

请注意: II-VI Incorporated 已变更为 Coherent Corp.

技术数据

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章

Coherent® LightSmyth™ 纳米图案硅印章

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